龙图光罩拟募资不超14.6亿元 布局40nm―28nm半导体掩模版产能

（原标题：龙图光罩拟募资不超14.6亿元 布局40nm―28nm半导体掩模版产能）

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龙图光罩(688721)3月23日晚间公告，公司拟向特定对象发行股票募资不超过14.6亿元，扣除发行费用后用于40nm―28nm半导体掩模版生产线建设项目。“项目实施后，公司预计能够填补我国40nm―28nm制程节点半导体掩模版的市场空白，技术实力将进一步提升，产品研发速度进一步加快，研发成果转换率进一步提高。”龙图光罩表示，项目的实施与落地，将显著提升公司的技术实力与经营规模，公司综合实力将得到大幅增强。

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在龙图光罩看来，40nm―28nm制程产品的布局不仅是公司前次募投项目的扩建与延续，更是公司保持行业地位、巩固市场竞争力的必经之路。“目前公司已实现90nm制程节点产品的量产出货，65nm产品也已开始送样验证。”龙图光罩表示，随着中国大陆半导体产业的快速发展，晶圆制造制程节点不断提升，公司需要提前布局更高制程节点产品才能保持自身技术进步与产品领先，才能满足境内晶圆制造厂商的日益增长的光罩需求。

龙图光罩表示，28nm制程能力是当前衡量我国掩模版企业技术实力的核心标杆。从行业格局看，第三方掩模版市场普遍以28nm为重要分界线：一方面，在28nm以下的先进制程领域，由于境外掩模版厂商具有先发优势和产业链集群优势，同时中国大陆半导体行业受贸易制裁、出口管制等多因素影响，当前国内能够自主量产28nm以下制程掩模版的企业数量极少；另一方面，能够突破28nm制程技术壁垒，是当前我国第三方掩模版企业构建差异化竞争优势、巩固市场地位的关键路径，亦是其持续保持技术引领力的必然要求。

从市场竞争格局看，目前130nm以上掩模版产品已经进入国产替代后期，竞争开始显现，相关市场规模难以继续保持快速增长；130nm―65nm掩模版产品则处于国产替代快速推进阶段，下游客户相对集中，境内光罩厂商处于送样验证或批量供货状态；40nm―28nm则处于国产替代初期，国内光罩厂尚处于布局阶段，因该制程区间对晶圆厂的投资强度和技术能力要求极高，因此客户高度集中。

龙图光罩直言，若公司未能及时跟进40nm―28nm制程的产能布局与技术落地，将面临市场竞争格局重塑中的被动局面：不仅可能错失境内40nm―28nm制程掩模版市场的国产替代增量机遇，亦可能因技术迭代滞后导致现有客户合作关系的潜在流失。

龙图光罩表示，国内40nm―28nm制程节点扩产的主要晶圆厂中，华虹半导体、士兰微、燕东微、粤芯半导体、积塔半导体等是公司现有核心客户，且华虹半导体、士兰微、燕东微等为公司战略股东，已形成了多年的战略合作关系。公司现有客户未来将存在大量的40nm―28nm制程掩模版需求，公司良好的客户关系有助于公司快速完成客户送样验证工作，预计项目投产后可以顺利消化相关产能。

掩模版厂商向下游客户销售掩模版时，通常是成套出售，其中一套掩模版中的制程节点各不相同，仅有少数的关键层会使用最高的制程，其余非关键层出于成本考量，通常使用相对较低的制程。因此，公司本次募投项目扩展40nm―28nm更高制程节点后，未来新增40nm―28nm制程产品的订单，同样会带来现有65nm以上制程产品的需求。